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系统号- 图书	000794579
ISBN	978-7-03-048268-6 (精装) : CNY260.00
作品语种	chi
题名	超大规模集成电路先进光刻理论与应用 / 韦亚一著
出版发行	北京 : 科学出版社, 2016
载体形态	15,558页 : 彩图 ; 24cm
一般性附注	中国科学院科学出版基金资助出版
摘要	本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于32nm节点以下的技术。
主题	超大规模集成电路 - 光刻系统 - 研究
中图分类号	TN305.7
个人著者	韦亚一

馆藏地:索书号	73.7551/124
馆藏地:索书号	TN305.7/3
馆藏地:索书号	TN305.7/3
馆藏地:索书号	TN305.7/2
馆藏地:索书号	73.7551/W124/42001CB1398127
全部馆藏	所有单册

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